芯片大師曾在日耗電百萬(wàn)度！“高攀不起”的EUV光刻機(jī)一文中指出，臺(tái)積電目前擁有超過(guò)80臺(tái)EUV光刻機(jī)，均分布在中國(guó)臺(tái)灣，以每天1MW的滿載功耗計(jì)算，開(kāi)機(jī)一天的耗電量高達(dá)192萬(wàn)度，相當(dāng)于一座中型城市，換算成火電每天需要消耗853噸煤！
而進(jìn)入3nm及以下節(jié)點(diǎn)后，不光投資額指數(shù)上漲，耗電量也繼續(xù)飆升。以1nm芯片工廠為例，3nm、5nm工廠的建設(shè)資金大約是200億美元，單1nm工藝的投資額高達(dá)320億美元，輕松超過(guò)2000億元。不僅如此，1nm工廠的耗電量也會(huì)是個(gè)麻煩，相比3nm工廠年耗電量70億度的水平來(lái)說(shuō)，1nm需要下一代EUV光刻機(jī)，總功耗將達(dá)到2MW，也就是200萬(wàn)瓦的水平。如果一天24小時(shí)運(yùn)轉(zhuǎn)，那么下代光刻機(jī)每天就要消耗4.8萬(wàn)度電。按年來(lái)算，1nm工廠不會(huì)少于80億度，甚至接近100億度，不可謂不驚人。預(yù)計(jì)到了2028年，這個(gè)1nm工廠的耗電量就相當(dāng)于全臺(tái)2.3%的用電量了，臺(tái)積電所有工廠將占到全臺(tái)15%以上。
