近日韓媒引述ASML財(cái)報(bào)稱，ASML收到了TWINSCAN EXE:5200的額外訂單，所有當(dāng)前的EUV客戶都已經(jīng)下單了下一代半導(dǎo)體設(shè)備“High-NA”，這其中包括三星和SK海力士。
圖：ASML 最新一代High-NA EUV
據(jù)悉，High-NA EUV設(shè)備是表示光的集光能力的鏡頭開口數(shù)（NA）從0.33提高到0.55的設(shè)備。與現(xiàn)有EUV設(shè)備相比，High-NA EUV設(shè)備可以繪制出更細(xì)微的半導(dǎo)體電路。因此業(yè)內(nèi)普遍認(rèn)為，要實(shí)現(xiàn)2nm工藝，High-NA設(shè)備將起到關(guān)鍵作用，甚至是必要條件。此前英特爾、臺(tái)積電都已宣布訂購“High-NA”EUV設(shè)備，隨著三星電子和SK海力士的入局，2nm制程技術(shù)的爭奪將更加激烈。據(jù)韓國設(shè)備商透露，現(xiàn)款EUV光刻機(jī)的訂貨價(jià)是2000~3000億韓元（約合10~16億元人民幣），而高NA EUV光刻機(jī)的報(bào)價(jià)翻番到了5000億韓元（約合26億元人民幣）。ASML首席執(zhí)行官Peter Wennink在財(cái)報(bào)會(huì)議上表示，第三季度預(yù)訂銷售額約89億歐元，其中High-NA系統(tǒng)等EUV設(shè)備銷售額達(dá)到38億歐元。
