近日，英特爾公布其位于愛(ài)爾蘭的Fab 34迎來(lái)第一臺(tái)EUV光刻系統(tǒng)，同時(shí)為下一代光刻機(jī)（High NA）準(zhǔn)備的D1X工廠舉行擴(kuò)建儀式。

圖：正在入廠的部分EUV系統(tǒng)

早在2012年7月，英特爾就向ASML的EUV開(kāi)發(fā)計(jì)劃投資了41億美元——其中31億美元用于購(gòu)買ASML的股票，10億美元用于資助EUV研發(fā)。

有趣的是，盡管制造EUV的ASML位于荷蘭，但這是歐洲晶圓廠有史以來(lái)第一次安裝EUV，而英特爾愛(ài)爾蘭廠也可以說(shuō)為此等待了10年。

因?yàn)锳SML EUV系統(tǒng)的另外兩大“金主”兼客戶是臺(tái)積電和三星，和英特爾三家合計(jì)占了ASML 2021年?duì)I收的84%，而此前安裝EUV的先進(jìn)晶圓廠均位于亞洲和美國(guó)。

據(jù)介紹，本次該EUV系統(tǒng)屬于NXE 3000系列，采購(gòu)均價(jià)約為2億美元，用于Intel首個(gè)使用EUV的工藝——Intel 4（相當(dāng)于臺(tái)積電4nm），而整座愛(ài)爾蘭晶圓廠（Fab 34）總投資達(dá)70億美元，是Intel第二座、歐洲第一座EUV工藝晶圓廠。

圖：EUV光刻系統(tǒng)內(nèi)部特寫(xiě)

英特爾稱，這座EUV系統(tǒng)由10萬(wàn)個(gè)零件、3千根電纜、4萬(wàn)個(gè)螺栓組成，此前已經(jīng)花費(fèi)18個(gè)月的設(shè)計(jì)和施工來(lái)建設(shè)容納這座機(jī)器的大樓。

同時(shí)，構(gòu)成該系統(tǒng)的模塊由全球60個(gè)地點(diǎn)制造發(fā)貨，ASML會(huì)組裝測(cè)試后將其拆解，再運(yùn)到客戶指定位置。而運(yùn)輸這個(gè)龐然大物需要4架波音747貨運(yùn)飛機(jī)滿載，然后陸運(yùn)部分由35輛卡車分批送入廠房。

目前，為了光刻機(jī)的順利安裝并對(duì)英特爾員工進(jìn)行培訓(xùn)，ASML已經(jīng)安排超過(guò)100名工程師進(jìn)入該廠進(jìn)行技術(shù)指導(dǎo)。

圖：為下一代EUV準(zhǔn)備的英特爾工廠

而另一臺(tái)售價(jià)高達(dá)3億美元的High NA EUV系統(tǒng)第一臺(tái)預(yù)計(jì)將被英特爾拿到，為它準(zhǔn)備的廠房則也在緊鑼密鼓的準(zhǔn)備中。

本周，Intel在位于美國(guó)俄勒岡的D1X工廠舉辦隆重的Mod3擴(kuò)建儀式，投資達(dá)30億美元，并將其命名為戈登摩爾（英特爾創(chuàng)始人之一）公園。

圖：兩代EUV系統(tǒng)體積對(duì)比

D1X-Mod3的重大意義在于，為工廠增加了2.5萬(wàn)平米的潔凈室空間，將D1X擴(kuò)大了20%，這便為最終足以搬進(jìn)ASML的下一代最先進(jìn)高數(shù)值孔徑（High NA）EUV光刻機(jī)TWINSCAN EXE:5200 EUV創(chuàng)造必要條件。

因?yàn)楹头?wù)Intel 3/4工藝的NXE 3000系列EUV光刻機(jī)相比，EXE 5200的體積大了很多，突破了D1X原來(lái)的“天花板”。而這臺(tái)機(jī)器可以為英特爾18A工藝制程提速，直接對(duì)標(biāo)的是臺(tái)積電的2nm。

而有能力購(gòu)買并使用它的客戶預(yù)計(jì)不超過(guò)五家。